中頻磁控濺射鍍膜設備,眼鏡框鍍膜設備，眼鏡鍍膜設備。中頻磁控濺射技術已漸成為濺射鍍膜的主流技術，它優于直流磁控濺射鍍膜的特點是 
1.克服了陽極消失現象 
2.減弱或消除靶的異常弧光放電。因此，提高了濺射過程的工藝穩定性，同時，提高了介

質膜的沉積速率數倍。
 
我公司研發了平面靶，圓柱靶，孿生靶，對靶等多種形式的中頻濺射靶結構和布局。該類

設備廣泛應用于眼鏡、表殼、表帶、手機殼、高爾夫球具、五金、餐具等鍍TiN、TiC、TICN、TiAIN、CrN等各種裝飾鍍層。 

13316689188李國棟
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