為滿足用戶需要,精細化工生產用去離子水設備設備達到相關行業標準的水質(20-0.1uS/cm),卓威精細化工生產用去離子水設備設計有如下解決方案,可供業主參考。
    1、陽床+陰床(水質可以做到0.2MΩ.cm以上即5
μs/㎝以下)
    2、陽床+陰床+混床(水質可以做到10MΩ.cm以上即0.1
μs/㎝以下)
    3、陽床+陰床+混床+拋光混床(水質可做到18MΩ.cm即0.055
μs/㎝)
    4、RO反滲透(水質可以做到0.2MΩ.cm以上即5
μs/㎝以下)
    5、RO反滲透+混床(水質可以做到10MΩ.cm以上即0.1
μs/㎝以下)
    6、RO反滲透+混床+拋光混床(水質可以做到18MΩ.cm即0.5μs/㎝)
    7、RO反滲透+EDI(水質可以做到15MΩ.cm以上即0.066μs/㎝以下)
    8、RO反滲透+EDI+拋光混床(水質可以做到18MΩ.cm即0.05μs/㎝)
    9、二級RO+EDI(水質可做到17MΩ.cm以上即0.058μs/㎝以下)
    10、二級RO+EDI+拋光混床(水質18MΩ.cm即0.055μs/㎝)
    RO、EDI、樹脂離子交換是當今制備去離子水的必選工藝設備。其中RO反滲透是當今一項最實用的膜分離技術,是依靠反滲透膜在壓力下使溶液中的溶劑與溶質進行分離的過程。可有效地去除水中的重金屬離子、鹽類、細菌等,去除率達到98%以上;
EDI連續電除鹽設備ConRinuousElecRrodeionizaRion(電解式連續去離子)為模塊式設備,可根據需要任意組合,該系統不需要停機再生,無需酸堿,因此廢水排放問題也得到解決,更符合環保要求。可將水的電阻值由0.05-0.1MΩ/cm提升至10-15MΩ/cm。EDI裝置現已應用在半導體、電廠、電子、制藥、實驗室等領域制備高去離子水。