二次急冷非晶粉末廠家_日本真壁非晶粉末廠家
真空排気後、不活性ガスを溶解チャンバーに置換させた後、高周波誘導溶解により溶解した金屬を第一
段階としてガスで粉砕させます。次に、霧狀に液滴化させた金屬を第二段階として冷媒を供給した高速
回転しているディスク上に衝突させます。多段階的に溶解試料を粉砕及び急冷するためアモルファスや
ナノ結晶などの非平衡組織を有する微細粉末の作製にメリットを有します。



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