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  僅僅有前述的TFT液晶顯示屏是無法實現顯示的，必須配上提供掃描信號和數據信號的驅動集成電路以及組裝有控制電路等PCB板的集成電路模塊；由于液晶本身并不發光，為此必須加上背光源，隨后將這些部件連同已經封裝了液晶的顯示屏組裝成顯示模塊。
  為了實現彩色TFT-LCD顯示，利用彩色濾色片，產生紅（R）、綠（G）、藍（G）3種原色，再合成為彩色顯示。為此需要采用白光的背光源，而每個圖像像素需要包含紅紅（R）、綠（G）、藍（G）3個子像素點，分別與上層玻璃基板的彩色濾色膜相對應。于是一個分辨率為，n×m，即具有n行、m列顯示像素的TFT-LCD屏實際上包含nX3m個像素。例如，對于600X800的SVGA顯示，TFT-LCD屏上包含的像素數為600X800XRGB=600X2400。根據彩色濾色膜的排列方式不同，可以分為條形、馬賽克形、Delta形等多種類型。其中條形結構最為簡單，易于設計、制備和驅動，但是其顯示質量差。馬賽克形的彩色質址好，但是由于同一條信號線上對應于不同的顯示行將循環傳送R、G、B3種不同的圖像信號，其像素的驅動復雜，濾色膜的制備困難。Delta形通過復雜的矩陣設計使上、下兩行顯示像素交錯，信號線彎曲，實現了同一條信號線上傳輸同一種彩色信號，從而使像素驅動簡單，獲得很好的彩色顯示質量，但濾色膜的制備困難。
  另一方面，由于彩色TFT模塊是光敏器件，光照將嚴重影響TFT的特性，使開關特性失效，為此在TFTLCD顯示中必須對其中的有源器件TFT進行全面的遮光。在TFT陣列基板上，如果采用倒柵TFT結構，由于金屬柵電極本身不透光，所以可以直接利用倒柵遮擋住背光源對溝道試域的照射，而無需制備額外的遮光層；但是對于頂柵結構的TFT這必須制備遮光層以遮擋背光源的照射，同時在彩色濾色膜的彩色像素周圍需要制備不透光的黑矩陣（BlackMatrix,BM），以遮擋像素間的雜散光，從而減少光照對TFT性能的影響。由于黑矩陣位于上層彩色濾色膜基板上，為了可靠遮擋光對下層TFT的照射，必須考慮制備工藝中帶來的對準誤差，因此需要留出一定的冗余，這樣真正有效的顯示面積將進一步降低，影響開口率的提高。通常采Cr和CrQ2的雙層膜以減少光的反射。在BM制備完成后再進行彩色濾色膜的制備，隨后淀積保護膜和ITO透明公共淀積，最后進行取向處理。由于Cr對環境有一定的污染，并且制備工藝較復雜，目前逐漸被黑色樹脂材料所替代。采用黑色樹脂制備黑矩陣可以利用光刻工藝一步完成，降低了工藝復雜性，減少了對準誤差，可以實現較高的開口率。

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