產品介紹       真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發和濺射兩種產品屬性   需要鍍膜的被稱為基片，鍍的材料被稱為靶材。 基片與靶材同在真空腔中。 使用方法    嚴格按照產品說明書操作使用，如出現不能解決的問題及時撥打我們的售后電話故障排除   詳情請見產品說明書常見故障問題處理，如出現不能解決的問題及時撥打我們的售后電話。安裝、維護    嚴格按照產品說明書安裝和維護，能有效體高產品的使用壽命注意事項    1. 開水泵、氣源。   2. 開總電源。   3. 開維持泵、真空計電源，真空計檔位置V1位置，等待其值小于10后，再進入下一步操作。約需5分鐘。   4. 開機械泵、予抽，開渦輪分子泵電源、啟動，真空計開關換到V2位置，抽到小于2為止，約需20分鐘。   5. 觀察渦輪分子泵讀數到達250以后，關予抽，開前機和高閥繼續抽真空，抽真空到達一定程度后才能開右邊的高真空表頭，觀察真空度。真空到達2×10-3以后才能開電子槍電源。其他說明  1. 總電源。   2. 同時開電子槍控制Ⅰ和電子槍控制Ⅱ電源：按電子槍控制Ⅰ電源、延時開關，延時、電源及保護燈亮，三分鐘后延時及保護燈滅，若后門未關好或水流繼電器有故障，保護燈會常亮。   3. 開高壓，高壓會達到10KV以上，調節束流可到200mA左右，簾柵為20V/100mA，燈絲電流1.2A，偏轉電流在1~1.7之間擺動。交易說明  歡迎廣大客戶來廠參觀、選購