XCTG-5+1 XCTG-6～9+2
鍍膜室規(guī)格 ∮700～800mm×800～880mm ∮900～1000mm×1000～1200mm
極限真空度 ≤7.6×10-4Pa
冷態(tài)抽真空時(shí)間 從1×105Pa至6.6×10-3Pa≤15分鐘
機(jī)組配置 KT-400擴(kuò)散泵機(jī)組 KT-400/ KT-500擴(kuò)散泵機(jī)組
靶配置 5個(gè)電弧靶1個(gè)磁控靶 6-9個(gè)電弧靶2個(gè)磁控靶
配電要求 KW KW
設(shè)備用途 適用于各類工具鍍鍍膜要求，可鍍制DLC、TiN、TiCn、CrN、AlTiN、CrAlTiN等功能膜層
備注 可根據(jù)用戶產(chǎn)品、產(chǎn)量、膜層特殊要求設(shè)計(jì)制造非標(biāo)專用設(shè)備。可加裝磁控靶、中頻孿生對(duì)靶等。